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曬版過(guò)程中的影響因素


2013-06-13 16:30:41   來(lái)源:豪禾印務(wù) 瀏覽量:
PS版的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
 
  普通PS版由鋁版基、氧化鋁層和感光膠層構(gòu)成。PS版在涂布感光液前,要對(duì)鋁板進(jìn)行前處理,包括電解砂目、陽(yáng)極氧化和封孔3個(gè)步驟。
 
  1.電解砂目
 
  電解的目的是在光滑的鋁板上形成砂目,使印版的圖文部分有良好的吸附基礎(chǔ),非圖文部分能均勻地被水分潤(rùn)濕,從而形成封閉的水膜層。
 
  電解砂目多用HCI和HNO3的混合液作為電解液,實(shí)踐證明,細(xì)密均勻且較深的砂目 有利于提高印版分辨力,能再現(xiàn)圖文的細(xì)微層次,并建立良好的吸附基礎(chǔ)。
 
  2.陽(yáng)極氧化
 
  陽(yáng)極氧化的目的是在鋁版基表面生成AI2O3膜層,提高印版耐印力和非圖文部分的親水性。氧化膜越厚,其耐磨性越強(qiáng),但若氧化膜層厚度增加,膜層彈性會(huì)下降,剛性上升,使膜層變脆,在高速印刷過(guò)程中易裂化,導(dǎo)致印版上臟。
 
  3.封孔
 
  經(jīng)過(guò)電解處理后,版基上會(huì)有均勻而較深的砂目,若此時(shí)直接涂布感光膠,則版面對(duì)感光膠吸附過(guò)牢,曝光、顯影后不能完全脫離,使印版的非圖文部分具有親油性,印刷時(shí)易上臟,因此要進(jìn)行封孔處理,以降低砂目的敏感性。封孔處理多采用硅酸鹽溶液在涂布感光液前填充鋁版基上的微孔。
 
  曬版過(guò)程中的影響因素
 
  1.曝光
 
  曝光量的多少是在PS版上獲得合適的光學(xué)密度的關(guān)鍵,曝光量過(guò)大,會(huì)使原版的網(wǎng)點(diǎn)經(jīng)曬版后縮小,墨點(diǎn)丟失嚴(yán)重,引起圖文部分網(wǎng)點(diǎn)的親油性,耐磨性降低,不易表現(xiàn)出層次的漸變;曝光量過(guò)小,易使感光樹脂光分解不徹底,暗調(diào)小白點(diǎn)糊死,甚至造成顯影困難,引起非圖文部分上臟。曝光量大小的計(jì)算公式為: E=I·t
 
  曝光時(shí),應(yīng)視印刷要求和產(chǎn)品特點(diǎn)的不同,控制光照度I和曝光時(shí)間t,以得到合適的曝光量E。
 
  2.顯影
 
  顯影液濃度過(guò)高或溫度過(guò)高時(shí),會(huì)加速顯影,并對(duì)未見光的感光層有溶解作用,使印版上的網(wǎng)點(diǎn)縮小,著墨性下降,圖文發(fā)虛,嚴(yán)重時(shí)還會(huì)出現(xiàn)掉版現(xiàn)象。而顯影液濃度過(guò)低或溫度過(guò)低,則會(huì)延長(zhǎng)顯影時(shí)間,使顯影不徹底,導(dǎo)致印版非圖文部分上臟。
 
  所以在顯影過(guò)程中,應(yīng)按照PS版生產(chǎn)廠家的使用說(shuō)明書來(lái)配制顯影液,顯影溫度控制在20~23℃為宜。
 
  3.曬版環(huán)境
 
  曬版機(jī)玻璃上的臟痕、膠片上的污物,拼版所用膠帶及未除去的多余規(guī)矩線等都會(huì)阻礙光線的正常通過(guò),若沒有及時(shí)發(fā)現(xiàn)、修掉,會(huì)造成顯影不徹底,進(jìn)而在印刷過(guò)程中引起上臟。
 
  同時(shí),PS版保存不當(dāng),受到自然光照射,感光層會(huì)發(fā)生輕微的光化學(xué)反應(yīng),使版面上有灰霧,顯影不徹底,造成非圖文親油上臟。
 
  保持良好的曬版環(huán)境,曬版室內(nèi)使用安全燈,做好膠片,PS版的保存工作,可有效降低環(huán)境因素對(duì)顯影質(zhì)量的影響。
 
  4.烤版
 
  為了提高印版的耐印力,有時(shí)需要烤版,烤版前除臟不徹底或涂擦烤版液時(shí)有污物落在版面上都會(huì)引起上臟,烤版溫度過(guò)高也會(huì)引起上臟。故烤版前應(yīng)仔細(xì)檢查版面,確保無(wú)污物?景鏈囟葹180~200℃,烤版時(shí)間以3~5分鐘為宜。
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